パルスレーザー堆積装置(PLD)1号機
Pulsed Laser Deposition PLD-No.1
主に熱電薄膜の成膜に使用するPLD装置。ターゲット材料にレーザーを照射し、基板上に薄膜を堆積させる。ガス雰囲気や真空雰囲気での成膜が可能。
Thin Film Deposition
Pulsed Laser Deposition PLD-No.1
主に熱電薄膜の成膜に使用するPLD装置。ターゲット材料にレーザーを照射し、基板上に薄膜を堆積させる。ガス雰囲気や真空雰囲気での成膜が可能。
Pulsed Laser Deposition PLD-No.2
主にREBCO薄膜の成膜に使用するPLD装置。酸素雰囲気下でターゲット材料にレーザーを照射し、基板上に薄膜を堆積させる。
Pulsed Laser Deposition PLD-No.3
大気暴露せずに試料を取り出せるようにグローブボックスがついたPLD装置。性能は2号機と同じ。Ar雰囲気での試料の取りつけ、取り出しが可能。
Synthesis machine
Automatic mortar
REBCO超伝導体のバルク試料やターゲットを合成する際に使用する自動混合が可能な乳鉢。現在2台所有。
Glove box (Miwa Mfg.)
不活性ガス雰囲気で実験を行うための装置。
Glove box (GBJ)
不活性ガス雰囲気で実験を行うための装置。2台目。637室に設置。
Tube furnace
酸素ガス雰囲気下でのアニールに使用する装置。
Vertical tube furnace
ブリッジマン法を用いた単結晶育成を行うための装置。
Hydrogen burner
石英菅の封管を行うための装置群。
Furnace
バルク合成の際に使用する電気炉。約1000℃の高温で焼結、アニールが可能。
Large Furnace
大型試料のバルク合成・焼結に使用する大型電気炉。2台所有。
Powder Compacting Press
ターゲット合成の際などに使用する油圧プレスと金型。
Hot Press machine
圧力をかけながら加熱してより密度の高い焼結体を作製することができる装置。主にバルク熱電物質の合成の際に使用する。
Spin Coater
基板上に薄膜を均一に塗布するための装置。溶液系材料の薄膜作製に使用する。
Electrochemical Synthesis Cell
電気化学的手法により薄膜を合成するための装置。ポテンショスタット、セル、簡易グローブボックスで構成される。
Evaluation equipment
Thermoelectric Property Evaluation System
バルク/薄膜試料の熱電特性評価が可能。
Cryogenic System
低温環境下での物性評価に使用する冷凍機システム。
NIMS Shared Equipment
SQUID Magnetometer (MPMS3)
磁化測定・臨界電流密度(Jc)評価に使用。
Physical Property Measurement System DynaCool (PPMS)
電気抵抗・比熱測定に使用。
X-ray Diffractometer (XRD)
薄膜X線やより精密なX線回折パターンを得るために使用。
X-ray Diffractometer (XRD)
薄膜・バルク試料の結晶構造評価に使用。