Yamashita Aichi.

保有装置

Thin Film Deposition

薄膜作製

パルスレーザー堆積装置(PLD)1号機

Pulsed Laser Deposition PLD-No.1

主に熱電薄膜の成膜に使用するPLD装置。ターゲット材料にレーザーを照射し、基板上に薄膜を堆積させる。ガス雰囲気や真空雰囲気での成膜が可能。

パルスレーザー堆積装置(PLD)2号機

Pulsed Laser Deposition PLD-No.2

主にREBCO薄膜の成膜に使用するPLD装置。酸素雰囲気下でターゲット材料にレーザーを照射し、基板上に薄膜を堆積させる。

パルスレーザー堆積装置(PLD)3号機

Pulsed Laser Deposition PLD-No.3

大気暴露せずに試料を取り出せるようにサイドチャンバーがついたPLD装置。性能は2号機と同じ。Ar雰囲気での試料の取りつけ、取り出しが可能。

Synthesis machine

合成装置

自動乳鉢

Automatic mortar

REBCO超伝導体のバルク試料やターゲットを合成する際に使用する自動混合が可能な乳鉢。現在2台所有。

日陶科学

グローブボックス(美和製作所)

Glove box (Miwa Mfg.)

不活性ガス雰囲気で実験を行うための装置。

画像準備中

グローブボックス(GBJ)

Glove box (GBJ)

不活性ガス雰囲気で実験を行うための装置。2台目。

GLOVEBOX JAPAN

画像準備中

真空/ガスフロー3ゾーン管状炉

Tube furnace

酸素ガス雰囲気下でのアニールに使用する装置。

画像準備中

単結晶育成管状炉

Vertical tube furnace

ブリッジマン法を用いた単結晶育成を行うための装置。

封管用水素バーナー・封管装置

Hydrogen burner

石英菅の封管を行うための装置群。

電気炉

Furnace

バルク合成の際に使用する電気炉。約1000℃の高温で焼結、アニールが可能。

画像準備中

電気炉(大型)

Large Furnace

大型試料のバルク合成・焼結に使用する大型電気炉。

粉末整形機

Powder Compacting Press

ターゲット合成の際などに使用する油圧プレスと金型。

画像準備中

ホットプレス装置

Hot Press machine

圧力をかけながら加熱してより密度の高い焼結体を作製することができる装置。主にバルク熱電物質の合成の際に使用する。

Evaluation equipment

評価装置

画像準備中

熱電特性評価装置M801

Thermoelectric Property Evaluation System M801

バルク試料の熱電特性評価が可能。

NIMS Shared Equipment

NIMS共通機器 / センター共用

超伝導量子干渉計(SQUID-MPMS3)

SQUID Magnetometer (MPMS3)

磁化測定・臨界電流密度(Jc)評価に使用。

Quantum Design

DynaCool(PPMS)

Physical Property Measurement System DynaCool (PPMS)

電気抵抗・比熱測定に使用。

Quantum Design

MiniFlex デスクトップX線回折装置(XRD)

X-ray Diffractometer (XRD)

薄膜X線やより精密なX線回折パターンを得るために使用。

Rigaku

SmartLab 全自動多目的X線回折装置(XRD)

X-ray Diffractometer (XRD)

薄膜・バルク試料の結晶構造評価に使用。

Rigaku

画像準備中

クラスターシステム

Cluster System

複数の成膜・処理チャンバーを大気暴露なしに連結したクラスター型真空装置。NIMS共用装置として利用可能。