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Yamashita Aichi.
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室井 孝太

Specially Appointed Engineer

室井 孝太

Kota Muroi

物質・材料研究機構(NIMS) スピンエネルギーGr.

Research

  • 超伝導薄膜
  • バルク合成
  • 粒子線照射耐性
  • ハイエントロピー材料

ハイエントロピー型(HE型)REBCO超伝導薄膜の成膜と照射耐性評価を担当。パルスレーザー堆積(PLD)法による薄膜作製・固相反応法によるバルクターゲット合成から、XRDによる構造解析、SQUID磁束計による磁化測定、TEM/HAADF-STEM・FIB・SEM-EDSによる微細組織観察までを一貫して行い、核融合炉用超伝導マグネットへの応用を目指した照射耐性向上の研究に従事。照射実験は北海道大学 超高分解能電子顕微鏡施設、QST高崎 TIARA、東京都立産業技術研究所のイオン注入装置を利用して実施。 ほか、水道局との共同研究として太陽光パネル搭載型熱電モジュールの実証試験にも従事(2024–2025年)。

Education & Career

  • 2024年3月

    東京都立大学 理学部 物理学科 卒業

  • 2026年3月

    東京都立大学大学院 理学研究科 物理学専攻 博士前期課程 修了

  • 2026年5月

    国立研究開発法人 物質・材料研究機構 特任エンジニア 着任

Expertise

  • 試料・薄膜作製

    PLD法、固相反応法によるバルク・ターゲット作製

  • 構造解析

    XRD(格子定数評価、配向性、照射前後の構造変化追跡)

  • 物性測定

    SQUID磁束計(MPMS3)による磁化測定

  • 微細組織観察

    TEM / HAADF-STEM、FIB、SEM-EDS

  • シミュレーション

    TRIM計算

  • プログラミング

    Python(pandas, numpy, matplotlib, scipy)によるデータ解析、研究室ウェブサイトの構築・運営、解析ソフトウェアの自作、チャットツール等のサーバー運営

Presentations

  • 7.

    K. Muroi, A. Yamashita, M. Yamanaka, Y. Mizuguchi, T. Kaneko, H. Yamada, N. Oono, K. Yoshida, "Development of high-entropy-type REBCO superconductor with multiple sites substitution", 22nd International Conference on Fusion Reactor Materials, Shizuoka (Japan), September 2025.ポスター発表

  • 6.

    室井孝太, 山下愛智, 山中慎大, 金子卓人, 大野直子, 水口佳一, 「複数サイト置換したハイエントロピー型REBa2Cu3O7-δ超伝導体の照射耐性」, 日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウム, 群馬, 2025年9月.口頭発表

  • 5.

    K. Muroi, A. Yamashita, T. Kaneko, Y. Mizuguchi, N. Oono, T. Shibayama, "Irradiation resistance of high-entropy REBa2Cu3O7-d superconductors with multiple sites substitution", 10th Japan-Korea International Symposium on Materials Science and Technology, Tokyo (Japan), July 2025.ポスター発表

  • 4.

    室井孝太, 山下愛智, 山中慎大, 金子卓人, 大野直子, 水口佳一, 「複数サイト置換したハイエントロピー型REBCO超伝導体の開発」, 2025年第72回応用物理学会春季学術講演会, 千葉, 2025年3月.ポスター発表

  • 3.

    K. Muroi, A. Yamashita, M. Yamanaka, T. Kaneko, N. Oono, Y. Mizuguchi, "Development of High-Entropy-Type REBCO Superconductor with Multiple Sites Substitution", Iron-based Superconductors: Advances towards applications 2025, Miyazaki (Japan), February 2025.ポスター発表

  • 2.

    室井孝太, 山下愛智, 山中慎大, 水口佳一, 「複数サイトを多元素固溶したハイエントロピー型REBa2Cu3O7-δ超伝導体の開発」, 低温工学・超電導学会 九州・西日本支部 2024年度若手イベント, 高知, 2024年10月.口頭発表

  • 1.

    室井孝太, 山下愛智, 山中慎大, 水口佳一, 「複数サイトを多元素固溶したハイエントロピー型REBa2Cu3O7-δ超伝導体の開発」, 日本物理学会 第79回年次大会, 北海道, 2024年9月.ポスター発表

Awards

  • 2025

    セッション優秀講演賞

    日本セラミックス協会 第38回秋季シンポジウム

Patents

  • 8.

    「HE-REBCOにおける中性子散乱断面積によるレアアース元素選択」山下愛智, 室井孝太, 久保田玲央 — 出願日: 2026/3/25, 米国出願 64/016201(国際)

  • 7.

    「超伝導体、超伝導線材、超伝導コイル、及び超伝導体の製造方法」山下愛智, 山中慎大, 室井孝太, 堀(大野)直子, 金子卓人 — 出願日: 2026/3/3, PCT/JP2026/008062(国際)

  • 6.

    「超伝導線材、超伝導線材の製造方法及び銅酸化物系超伝導体の修復方法」山下愛智, 室井孝太 — 出願日: 2025/12/5, 特願2025-236021

  • 5.

    「超伝導体及び相分離型超伝導体の製造方法」山下愛智, 室井孝太, 小林竜二 — 出願日: 2025/8/29, 特願2025-144279

  • 4.

    「銅酸化物系超伝導体、銅酸化物系超伝導体ユニット及び銅酸化物系超伝導体の修復方法」山下愛智, 山中慎大, 室井孝太 — 出願日: 2025/6/9, PCT/JP2025/020800(国際)

  • 3.

    「積層体及び積層体の製造方法」山下愛智, 山中慎大, 室井孝太 — 出願日: 2025/6/9, PCT/JP2025/020778(国際)

  • 2.

    「超伝導体及び超伝導体の製造方法」山下愛智, 山中慎大, 室井孝太, 堀(大野)直子, 金子卓人 — 出願日: 2025/3/3, 特願2025-032960

  • 1.

    「積層体及び積層体の製造方法」山下愛智, 山中慎大, 室井孝太 — 出願日: 2024/6/7, 特願2024-093048