国際特許出願（PCT）：超伝導体及び超伝導体の製造方法

国際特許出願：「超伝導体及び超伝導体の製造方法」（山下愛智, 水口佳一, 山中慎大ほか）出願日: 2024年5月21日, 国際出願番号: PCT/JP2024/018667。